特許
J-GLOBAL ID：200903019513229320
レチクル基板固定装置及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-018001
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204425
出願日： 1998年01月13日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】レチクルの平面度を維持すると共に、レチクルステージの駆動開始時においてもレチクルの位置ずれの発生を防止し、良好な画像を得る。【解決手段】レチクルステージ(5)がレチクルステージ表面(5a)とほぼ平行にレチクル基板保持手段(4)を支持し、レチクル基板保持手段(4)にはレチクル基板(3)のパターン面の裏面(3b)を吸着する吸着手段(22)が形成され、吸着手段(22)によってレチクル基板のパターン面(3a)をレチクルステージ(5)側に向けて保持し、レチクル基板のパターン面(3a)がレチクルステージ表面(5a)上に配置された高さ基準手段(20)上に載置されたことを特徴とするレチクル基板固定装置、及び露光装置である。
請求項（抜粋）：
パターン面に回路パターンが形成されたレチクルを、移動可能に構成されたレチクルステージに固定するレチクル基板固定装置において、前記レチクルステージは該レチクルステージ表面とほぼ平行にレチクル基板保持手段を支持し、前記レチクル基板保持手段はレチクル基板の前記パターン面の裏面を吸着する吸着手段が形成され、該吸着手段によってレチクル基板の前記パターン面を前記レチクルステージ側に向けて保持し、レチクル基板の前記パターン面が前記レチクルステージ表面上に配置された高さ基準手段上に載置されたことを特徴とするレチクル基板固定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 515 F
, H01L 21/68 N
