特許

J-GLOBAL ID：200903019514065282

セラミック皮膜形成方法及びその方法を用いて作製したセラミック部材

発明者： 内林 哲夫 ,  岸武 勝彦
出願人/特許権者： 富士岐工産株式会社
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-145797
公開番号（公開出願番号）：特開平8-337487
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】 セラミック基材と皮膜とを十分な強度で接合可能な、セラミック基材上へのセラミック皮膜形成方法を提供する。【構成】 セラミック皮膜形成方法を次の各工程を備えるように構成する、(a)酸化物系セラミック材料からなる基材1の表面に溶射などの金属皮膜形成手段によって中間層2を形成する第1工程、(b)形成された中間層2の表面に溶射によってセラミック外層3を形成する第2工程、(c)中間層2、並びに、セラミック外層3を形成された前記セラミック基材1を、中間層2の少なくとも一部が酸化されるように、熱処理する第3工程。第3工程での熱処理での酸化反応によって、中間層2とセラミック外層3の間に化学結合が生じ、セラミック基材と皮膜の間の接合強度が向上する。

請求項（抜粋）：

次の各工程を備えた、酸化物系セラミック基材上へのセラミック皮膜形成方法、(a)酸化物系セラミック材料からなる基材(1,61)の表面に金属皮膜形成手段によって中間層(2,62)を形成する第1工程、(b)形成された前記中間層(2,62)の表面に溶射によってセラミック外層(3,63)を形成する第2工程、(c)前記中間層(2,62)、並びに、前記セラミック外層(3,63)を形成された前記セラミック基材(1,61)を、前記中間層(2,62)の少なくとも一部が酸化されるように、熱処理する第3工程。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-079777
  
• 特開昭55-028352
  
• 特開昭63-079777
  
• 特開昭55-028352