特許
J-GLOBAL ID:200903019518059163

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶原 康稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-315519
公開番号(公開出願番号):特開平8-147625
出願日: 1994年11月25日
公開日(公表日): 1996年06月07日
要約:
【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップ先端近傍における磁束の漏洩を抑制して、磁束を効果的にギャップ先端に導入集中する。【構成】 コイル68,78を挟むように上下コア54,82が配置されており、上下コアの前側は4層の前部中間コア56,62,71,72で、後側は後部中間コア58,74で接合されている。磁気ギャップ70から上下コア54,82に至るまでの前部中間コア56,62,71,72は、ギャップ深さL=0の位置よりも後部で階段状となっている。これにより、磁気漏洩部の厚みΔdを大きくすることができるとともに、コイル68,78への通電によって生ずる磁束の漏洩が良好に抑制でき、磁束を効果的にギャップ先端に導入,集中できる。
請求項(抜粋):
上コア,下コア,前部中間コア,後部中間コアによって磁気回路を構成する各層が平坦に形成されており、前記上下コアと前部中間コアの積層部のいずれかに磁気ギャップが形成された薄膜磁気ヘッドにおいて、前記前部中間コアのギャップ深さ0の位置よりも後側を、前記上下コアから磁気ギャップに向かって段階的に磁路が狭くなる階段状の構造としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭62-107417
  • 特開平1-137418
  • 特開平4-195809
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