特許
J-GLOBAL ID：200903019519605110
ガラス成形用型とその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-327703
公開番号（公開出願番号）：特開平6-171962
出願日： 1992年12月08日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】【構成】ガラス成形用型の表面に、光CVD法またはイオンビームスパッタ法により窒化炭素膜、または窒化炭素と金属炭化物、窒化物または金属炭窒化物からなる複合体膜をSiCやSi3 N4 などからなる型基体表面に直接、または混合層を介して形成する。【効果】成形型との密着性、ガラスとの離型性及び耐酸化性に優れたガラス光学素子成形金型のガラス離型膜を得る。
請求項（抜粋）：
型基体のガラス成形面に窒化炭素を含有する離型膜を形成したことを特徴とするガラス成形用型。
IPC (2件)：
前のページに戻る
