特許
J-GLOBAL ID:200903019521616499
積層セラミック磁性部品とその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
丸岡 政彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-174868
公開番号(公開出願番号):特開平7-014716
出願日: 1993年06月22日
公開日(公表日): 1995年01月17日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 積層セラミック磁性部品としては、積層セラミック・トランスや積層セラミック・インダクタ等が知られているが、従来の積層セラミック磁性部品には、電流が流れ過ぎると磁性体が磁気飽和し、インダクタンス値が急激に減少すると言う課題があった。本発明の目的は、この課題を解決する積層セラミック磁性部品およびその製造方法を提供することにある。【構成】 コイル7を内設した磁性体内の、磁束の流れを遮断する位置に、低い透磁率を有する層8を介在させることによって、磁性体が飽和し難くなり、許容電流値が増大し、上記の課題を解決した積層セラミック磁性部品が得られる。
請求項(抜粋):
セラミック積層体内に、単一もしくは複数のコイルを埋設した積層セラミック磁性部品であって、積層体を構成する主たる磁性体の透磁率より低い透磁率を有する層が、前記主たる積層磁性体内の磁束の流れを遮断する位置に、少なくとも低透磁率層が介在することを特徴とする積層セラミック磁性部品。
IPC (3件):
H01F 17/00
, H01F 17/04
, H01F 41/04
引用特許:
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