特許
J-GLOBAL ID:200903019524238673

排ガス浄化用触媒とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-156652
公開番号(公開出願番号):特開2002-346391
出願日: 2001年05月25日
公開日(公表日): 2002年12月03日
要約:
【要約】【課題】 高価な貴金属であるロジウム(Rh)、白金(Pt)を使用することなく、また、パラジウム(Pd)の使用を抑えて、コスト面で比較的に優位な金属を使用することにより、今後さらに厳しくなる排ガス規制に対応できる安価な排ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。【解決手段】 担体にRuを担持させるステップと、次いで、前記担体にPdを担持させるステップとを含む排ガス浄化用触媒製造方法と、この製造方法により調製される排ガス浄化用触媒を提供する。また、RuとPdに加えて、第三の金属成分を含む触媒とその製造方法を提供する。
請求項(抜粋):
担体にRuを担持させるステップと、次いで、前記担体にPdを担持させるステップとを含む排ガス浄化用触媒製造方法。
IPC (9件):
B01J 23/89 ,  B01D 53/86 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/46 311 ,  B01J 23/58 ,  B01J 23/60 ,  B01J 23/63 ,  B01J 23/68 ,  F01N 3/10
FI (9件):
B01J 23/89 A ,  B01J 23/46 301 A ,  B01J 23/46 311 A ,  B01J 23/58 A ,  B01J 23/60 A ,  B01J 23/68 A ,  F01N 3/10 A ,  B01J 23/56 301 A ,  B01D 53/36 C
Fターム (74件):
3G091AA02 ,  3G091AB03 ,  3G091BA03 ,  3G091FA01 ,  3G091FA04 ,  3G091FB10 ,  3G091FC07 ,  3G091GB05W ,  3G091GB07W ,  3G091HA08 ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048BA01X ,  4D048BA02X ,  4D048BA14X ,  4D048BA15X ,  4D048BA16X ,  4D048BA18X ,  4D048BA19X ,  4D048BA28X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA32X ,  4D048BA33X ,  4D048BA35X ,  4D048BA36X ,  4D048BA37X ,  4D048BA38X ,  4D048BB02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BC04A ,  4G069BC04B ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069BC10A ,  4G069BC10B ,  4G069BC12A ,  4G069BC12B ,  4G069BC13A ,  4G069BC13B ,  4G069BC31A ,  4G069BC31B ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069BC42A ,  4G069BC42B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CA03 ,  4G069CA07 ,  4G069CA08 ,  4G069CA09 ,  4G069DA06 ,  4G069EA19 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開昭49-114589
  • 特開昭53-075188
  • 特開昭50-056390
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