特許
J-GLOBAL ID:200903019534248812
偏光フィルムの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-207961
公開番号(公開出願番号):特開2001-083329
出願日: 2000年07月10日
公開日(公表日): 2001年03月30日
要約:
【要約】【課題】 高湿熱下で光学性能の劣化が少なく、高い耐久性能を示すヨウ素系偏光フィルムを製造する。【解決手段】 一軸延伸及びヨウ素の吸着配向処理が施されたポリビニルアルコールフィルムをほう酸含有水溶液中で浸漬処理してヨウ素系偏光フィルムを製造するに際し、ほう酸含有水溶液をpH4.5以下に保って上記浸漬処理を行う。一旦ほう酸処理に使用されたほう酸含有水溶液を、そのpHを4.5以下に保ちながら再使用するのも有効である。
請求項(抜粋):
一軸延伸及びヨウ素の吸着配向処理が施されたポリビニルアルコールフィルムをほう酸含有水溶液中で浸漬処理してヨウ素系偏光フィルムを製造する方法において、該ほう酸含有水溶液がpH4.5以下であることを特徴とする偏光フィルムの製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
FI (2件):
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
引用特許:
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