特許

J-GLOBAL ID：200903019534460927

無電解ニッケルめっき皮膜、この皮膜を有する機械部品および無電解めっき浴

発明者： 渡辺 純貴
出願人/特許権者： 日本カニゼン株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-359762
公開番号（公開出願番号）：特開2007-162069
出願日： 2005年12月14日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：

【課題】室温から高温領域にわたる広い温度範囲において高い硬度を有し、摺動性および靭性に優れ、しかも高速で形成することができるめっき皮膜、および上記めっき皮膜で摺動部分を被覆した、広い温度範囲で硬度が高く、摺動特性に優れた機械部品を提供すること。【解決手段】Coを1〜50質量%、Wを1〜20質量%、Pを1〜5質量%含有することを特徴とする無電解ニッケルめっき皮膜。摺動部分を有する機械部品。少なくとも前記摺動部分を上記皮膜で被覆する。Niイオンを0.03〜0.1mol/L、Coイオンを0.01〜0.05mol/L、WO4イオンを0.01〜0.05mol/L、リン化合物を0.15〜0.30mol/L含有する無電解めっき浴。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

Coを1〜50質量%、Wを1〜20質量%、Pを1〜5質量%含有することを特徴とする無電解ニッケルめっき皮膜。

IPC (1件)：

C23C 18/36

FI (1件)：

C23C18/36

Fターム (14件)：

4K022AA02 ,  4K022AA48 ,  4K022BA06 ,  4K022BA14 ,  4K022BA16 ,  4K022BA24 ,  4K022BA32 ,  4K022CA03 ,  4K022CA29 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB04 ,  4K022DB07 ,  4K022DB08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平4-119265号公報
  

審査官引用 (2件)

• 半導体集積回路装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-002683   出願人：科学技術振興事業団, 株式会社熊防メタル, 凸版印刷株式会社, 緒方工業株式会社, 株式会社野田市電子
• 内燃機関用ピストン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-354232   出願人：日本メツキ工業株式会社