特許
J-GLOBAL ID:200903019540720019

N-あるいはアミノ基、アンモニウム基またはスピロ二環アンモニウム基を含有するポリマーを浄化するための洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-526943
公開番号(公開出願番号):特表2004-509185
出願日: 2001年08月30日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【解決手段】本発明は、N-あるいはアミン基、アンモニウム基またはスピロ二環アンモニウム基を含有し、かつカチオン性N-含有基並びに適当な対イオンを含むポリマーを浄化するための洗浄方法において、重合および架橋によって得られるゲル化したポリマーをa)塩基の添加によって部分的にまたは完全に脱プロトン化し、b)部分的にまたは完全に脱プロトン化されたポリマーを洗浄し、次いでc)場合によっては有機溶剤または有機溶剤/水-混合物中で酸の添加によって再プロトン化し、その後にd)場合によってはそのゲルを収縮させるために有機溶剤または有機溶剤/水-混合物で洗浄しそして場合によってはe)段階c)またはd)に続いて段階a)〜c)またはd)までを繰り返すことを特徴とする、上記方法である。
請求項(抜粋):
N-あるいはアミン基、アンモニウム基またはスピロ二環アンモニウム基を含有し、かつカチオン性N-含有基並びに適当な対イオンを含むポリマーを浄化するための洗浄方法において、重合および架橋によって得られるゲル化したポリマーをa)塩基の添加によって部分的にまたは完全に脱プロトン化し、 b)部分的にまたは完全に脱プロトン化されたポリマーを洗浄し、次いで c)場合によっては有機溶剤または有機溶剤/水-混合物中で酸の添加によって 再プロトン化し、その後に d)場合によってはそのゲルを収縮させるために有機溶剤または有機溶剤/水- 混合物で洗浄しそして場合によっては e)段階c)またはd)に続いて段階a)〜c)またはd)までを繰り返す ことを特徴とする、上記方法。
IPC (1件):
C08F6/00
FI (1件):
C08F6/00
Fターム (8件):
4J100AN02P ,  4J100AN03P ,  4J100AN14P ,  4J100AQ19P ,  4J100CA31 ,  4J100GC04 ,  4J100GC35 ,  4J100HA31
引用特許:
審査官引用 (2件)

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