特許

J-GLOBAL ID：200903019547811800

液浸上層膜用重合体および液浸上層膜用樹脂組成物

発明者： 宇高 友広 ,  千葉 隆 ,  中川 大樹 ,  堂河内 寛 ,  杉浦 誠
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-058406
公開番号（公開出願番号）：特開2006-243309
出願日： 2005年03月03日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：

【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体は式(1)で表される基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の30〜100モル%含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が2,000〜100,000であり、アルカリ可溶性である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体は下記式(1)で表される基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の30〜100モル%含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が2,000〜100,000であることを特徴とする液浸上層膜用重合体。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ,  C08F 20/38 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/11 501 ,  C08F20/38 ,  H01L21/30 502R

Fターム (43件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB04Q ,  4J100AC03Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL34Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AS01Q ,  4J100AS02Q ,  4J100AS03Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA28P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA58P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC28Q ,  4J100BC43Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA32

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-341445   出願人：株式会社ニコン