特許
J-GLOBAL ID：200903019550516223
被膜形成装置及び被膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024546
公開番号（公開出願番号）：特開平11-262720
出願日： 1996年08月27日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：
【要約】【課題】 被処理物に塗布された塗布液を波打ちのない被膜とする。【解決手段】 被処理物W表面の中央に被膜形成用の塗布液を滴下し、被処理物W表面に塗布液を均一に拡げる。この時、被処理物Wの外端部下面には被膜形成用の塗布液の一部が廻り込んでいるがそのまま減圧乾燥装置3に搬送してある程度まで乾燥せしめる。次いで、加熱乾燥をする。
請求項（抜粋）：
ガラス基板や半導体ウェハー等の被処理物表面に被膜を形成する装置において、この装置は被処理物の搬送ラインに沿って、上流側から下流側に向かって、被膜となる液体を被処理物表面に均一に拡げる塗布装置、被処理物表面に塗布した塗布液をある程度乾燥させる減圧乾燥装置及び加熱装置を順次配置したことを特徴とする被膜形成装置。
IPC (3件)：
B05C 9/14
, B05D 3/00
, B05C 11/08
B05C 9/14
, B05D 3/00 Z
, B05C 11/08
