特許

J-GLOBAL ID：200903019571841221

ガス分離膜およびその製造方法

発明者： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-092192
公開番号（公開出願番号）：特開2001-276586
出願日： 2000年03月29日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】水分の影響を受けることなく、複数のガスを含有する混合ガスから特定ガスのみを選択的かつ効率的に分離するのに好適なガス分離膜およびガス分離フィルタを提供する。【解決手段】多孔質支持体2の少なくとも一方の表面に通気性を有し、Siを含有するシロキサン結合によって形成された複数の細孔4を有する非晶質の酸化物からなる分離膜3を被着形成し、複数の細孔4の内壁面に水が吸着してなるガス分離フィルタ1を用いて、特定ガスを選択的かつ効率的に透過、分離する。

請求項（抜粋）：

多数の細孔を具備するシリカを含有する多孔質体からなり、該細孔の内壁面に水が吸着してなり、該細孔によって特定のガスのみを選択的に透過することができるガス分離膜。

IPC (4件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 500 ,  C04B 41/87

FI (4件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 500 ,  C04B 41/87 A

Fターム (30件)：

4D006GA41 ,  4D006KE02P ,  4D006KE06P ,  4D006KE07P ,  4D006KE08P ,  4D006KE12P ,  4D006KE13P ,  4D006KE16P ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA07 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MB04 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006MC71X ,  4D006MC90 ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006NA50 ,  4D006PA10 ,  4D006PB20 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PC71