特許
J-GLOBAL ID：200903019574490985
レジスト用現像液の調製方法および現像液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-008879
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258820
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 品質安定性に優れ、取り扱い、品質管理が容易な高濃度現像原液を用いることにより、希釈時に活性剤等を別途配合する手間を省くことができるとともに、低起泡性・消泡性並びに均一な濡れ性に優れ、しかもマスクパターンに忠実なレジストパターンを形成することのできる現像液を簡易に得る。【解決手段】 金属イオンを含まない有機塩基を高濃度で含み、かつ、重量平均分子量が100〜1000であって、エチレンオキシド化合物、プロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種を含有する高濃度のレジスト用現像原液を水で所要濃度に希釈するレジスト用現像液の調製方法、および該方法により得られるレジスト用現像液。
請求項（抜粋）：
金属イオンを含まない有機塩基を高濃度で含み、かつ、重量平均分子量が100〜1000であって、エチレンオキシド化合物、プロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種を含有する高濃度のレジスト用現像原液を、水で所要濃度に希釈する、レジスト用現像液の調製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/32
, H01L 21/30 569 E
