特許
J-GLOBAL ID：200903019589509950
X線マスク用支持膜
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-105423
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306607
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 X線マスク用支持膜に要求される全ての項目を満足するX線マスク用支持膜を提供する。【構成】 シリコン基板1上に設けられてX線露光に用いられるX線マスクを支持するためのX線マスク用の支持膜1である。膜厚が0.5μm以下のSiC膜3と、膜厚が0.1μm以下のSiN膜4とが交互に積層され、全体の厚さが1.0〜3.0μmに形成されてなる。SiC膜3およびSiN膜4は、共にその引っ張り応力が5×107 〜30×107 Paに調整されている。
請求項（抜粋）：
シリコン基板上に設けられてX線露光に用いられるX線マスクを支持するためのX線マスク用の支持膜であって、膜厚が0.5μm以下のSiC膜と膜厚が0.1μm以下のSiN膜とが交互に積層されて全体の厚さが1.0〜3.0μmに形成されてなるX線マスク用支持膜。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
