特許
J-GLOBAL ID：200903019594208054
芳香族系高分子スルホン化物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082234
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273120
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 熱変性を生じることなく効率良く高品質のスルホン化物を得ることができる。【解決手段】 平均分子量約5000のポリスチレンを1,2-ジクロルエタンに11%(重量)の濃度で溶解したものを原料とし、液体SO3をスルホン化剤として、SO3モル比1.15、反応温度45°Cでスルホン化を行った。その後、溶媒を含む反応生成物を振動乾燥機に15kgの量を導入した。原料は、乾燥機2の上部の投入口5から導入されるようになっている。スルホン化物と溶媒との混合物を上記乾燥機2内に導入し、90°Cに温度制御するとともに乾燥機空間内を真空引きして絶対圧力をを約200Torrに制御した。溶媒は、揮発して乾燥機の上方の出口10から留出し始めた。燥機2に振動動作を付加した。ポリスチレンスルホン酸の粉体を乾燥機2の底部に集め、2.84kgの粉体を得た。回収率は、理論スルホン化物量に対して、99.5%(重量)であった。固形物に対する溶媒残存量は、0.5%(重量)であった。約5000以上の平均分子量を有する芳香族高分子材料を好適に使用することができる。
請求項（抜粋）：
芳香族系高分子原料を有機溶媒に溶融し、スルホン化剤を付加してスルホン化して芳香族スルホン化物を生成し、該スルホン化物が前記有機溶媒中でほぼ均一に分散したスラリーを形成し、該スルホン化物と有機溶媒からなるスラリーを約100°C以下の温度に設定され、かつ所定の真空状態に制御された乾燥機内に導入し、スルホン化物を乾燥させることによって有機溶媒とスルホン化物とを分離することを特徴とする芳香族系高分子スルホン化物の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (30件)：
4J100AA02Q
, 4J100AA03Q
, 4J100AA04Q
, 4J100AA06Q
, 4J100AB00P
, 4J100AB02P
, 4J100AB03P
, 4J100AB04P
, 4J100AB07P
, 4J100AB16Q
, 4J100AJ02Q
, 4J100AJ08Q
, 4J100AJ09Q
, 4J100AM02Q
, 4J100AR17Q
, 4J100AS02Q
, 4J100AS03Q
, 4J100AS04Q
, 4J100BA03P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA31
, 4J100HA01
, 4J100HA61
, 4J100HB54
, 4J100HD01
, 4J100HE05
, 4J100HE14
, 4J100HF00
, 4J100HF05
