特許

J-GLOBAL ID：200903019598924080

指紋の構造を測定する方法および装置

発明者： トシュディ、ヨン
出願人/特許権者： シンテフ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-504223
公開番号（公開出願番号）：特表2002-505778
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】指紋等の構造を測定する方法および装置であって、指紋表面の一部分に接触または接近して配置される複数のセンサーで構成されたセンサーアレーを使用して、例えばキャパシタンスや抵抗の測定によって指紋表面における選択された特徴を測定することを含む指紋等の構造を測定する方法および装置である。指紋表面この特徴部分は、与えられた時間間隔のもとに表面の細長い部分に沿う複数の測定点から成る少なくとも1つの直線で測定され、このセンサーアレーは基本的に一次元アレーで、指紋表面はセンサーアレーに対して直角方向に動き、これにより異なるか部分的に重なり合う表面部分で測定が行われ、指紋表面の特徴部分を表す部分化された二次元表示を与えるために指紋表面の測定部分の測定値が組合わされる。

請求項（抜粋）：

指紋表面の一部分に接触または接近して配置された複数のセンサーを含むセンサーアレーを用いて、例えばキャパシタンスや抵抗の測定によって指紋表面の選択された特徴部分を測定することを含む指紋等の構造を測定する方法において、 所定の時間間隔のもとに表面の細長い部分に沿う測定点から成る少なくとも1つの直線で前記特徴部分の測定が行われ、 前記測定点から成る前記直線から、その直線と直角方向で選択された距離だけ隔てられた位置に置かれたる少なくとも1つの測定点を用いて前記特徴部分が測定され、 センサーアレーに対して直角方向にセンサーアレーと相対的に指紋表面を動かし、これにより異なるかまたは部分的に重なり合う指紋表面部分で測定が行われ、またセンサーの前記直線および前記少なくとも1つのセンサーでの測定から前記動きが計算され、 指紋表面の前記特徴部分を表す区分された二次元表示を得るために、指紋表面の複数測定部分の測定値を組合わせることを特徴とする指紋等の構造の測定方法。

IPC (3件)：

G06T 1/00 400 ,  A61B 5/117 ,  G01B 7/28

FI (3件)：

G06T 1/00 400 G ,  G01B 7/28 C ,  A61B 5/10 322