特許
J-GLOBAL ID:200903019615934044
ガラス光学素子プレス成形用型の再生方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山下 穣平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-124743
公開番号(公開出願番号):特開2000-319028
出願日: 1999年04月30日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 十分な強度、硬度を確保し、しかも、再生が容易であり、従来の再生方法に比べて十分、コストを低減できる光学素子プレス成形用型の再生方法を提供する。【解決手段】 ガラス光学素子をプレス成形する際に使用するプレス成形用型が、超硬合金などの材料で構成されており、その成形面に所定の粗度に仕上げるための硬質セラミック膜をコーティングしている場合において、再生すべき前記セラミック膜を、その下地を可及的に腐食しないような処理時間で、酸あるいはアルカリ溶液を用いて、腐食・除去する工程と、下地表面を洗浄する工程と、下地の表面粗さがRmaxで10nm以下において、新たなセラミック膜を成膜する工程とからなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
ガラス光学素子をプレス成形する際に使用するプレス成形用型が、超硬合金などの材料で構成されており、その成形面に所定の粗度に仕上げるための硬質セラミック膜をコーティングしている場合において、再生すべき前記セラミック膜を、その下地を可及的に腐食しないような処理時間で、酸あるいはアルカリ溶液を用いて、腐食・除去する工程と、下地表面を洗浄する工程と、下地の表面粗さがRmaxで10nm以下において、新たなセラミック膜を成膜する工程とからなることを特徴とする、ガラス光学素子プレス成形用型の再生方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C03B 11/00 N
, C03B 40/00
Fターム (1件):
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