特許

J-GLOBAL ID：200903019628695537

描画装置および描画方法

発明者： 木山 元
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-125519
公開番号（公開出願番号）：特開2000-318115
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】 労力的・時間的ロスおよび材料ロスを極力少なくすることができる描画装置および描画方法を提供することである。【解決手段】 版取付用のドラム1と、版50上にレーザビームを照射する高出力レーザビーム照射部12を有するレーザブロック2と、該ドラム1とレーザブロック2を駆動すると共に版50上の所定位置にレーザビームを照射させるよう高出力レーザビーム照射部12を制御する制御装置5と、版50上への描画位置を検知する主走査エンコーダ6、副主走査エンコーダ11と、描画機構と版50の表面までの距離を計測するオートフォーカス部13と、計測結果が許容値の範囲か否かを判定する不良個所集計・不良判定器29とを備えた構成にしてある。

請求項（抜粋）：

記録媒体上に所定の画像を描画する手段と、記録媒体上への描画位置を検知する手段と、描画機構と記録媒体の表面までの距離を計測する手段と、描画状態の計測結果から記録媒体の良否を判定する手段とを備えていることを特徴とする描画装置。

IPC (2件)：

B41C 1/05 ,  B41M 5/26

FI (2件)：

B41C 1/05 ,  B41M 5/26 V

Fターム (7件)：

2H084AA14 ,  2H084AE05 ,  2H084AE07 ,  2H084CC05 ,  2H084CC18 ,  2H111HA14 ,  2H111HA35