特許

J-GLOBAL ID：200903019631595071

露光装置および露光方法

発明者： 森田 清輝
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-076301
公開番号（公開出願番号）：特開2006-259202
出願日： 2005年03月17日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】基板変形に対応した両面露光装置において、生産性と位置あわせ性能を落とすことなく、コストダウンを測ることを目的とする。 【解決手段】上流側露光装置14で計測した基板の情報を、反転して、下流側露光装置18へ伝達する。下流側露光装置18で、この情報を、予め行う露光パターンの変形処理、および、基板計測に使用することにより、下流側露光装置18での処理時間を短縮する。これにより、下流側露光装置18の計測機能および画像処理機能を減少させても、生産性と位置あわせ性能を落とすことなく、コストダウンを測ることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被描画媒体の変形量を算出して、この変形量に応じて描画パターンを変形して被描画媒体の第1面に描画を行う第1の描画手段と、前記被描画媒体の第2面に描画を行う第2の描画手段と、前記第1の描画手段と第2の描画手段との間で情報の通信を行う通信手段とを有し、 前記第1の描画手段は、前記通信手段を用いて被描画媒体の変形情報を前記第2の描画手段に供給し、前記第2の描画手段は、供給された変形量の情報に応じて描画パターンを変形して被描画媒体の第2面に描画を行うことを特徴とする両面描画システム。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/20 501 ,  G03F9/00 A ,  H01L21/30 516Z ,  H01L21/30 525W

Fターム (5件)：

2H097BA02 ,  2H097KA03 ,  2H097LA01 ,  5F046DB05 ,  5F046FC04