特許

J-GLOBAL ID：200903019631628646

面位置検出装置、面位置検出方法及び露光装置

発明者： 広岡 道浩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-388628
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188084
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：

【要約】【課題】 基板上の測定位置にごみ等の異物が存在した場合にも、異物が存在しない他のチップにデフォーカスを生じさせることなく、投影光学系の焦平面に適切に位置合わせすることを可能にする。【解決手段】 パターン構造を有する領域が形成された物体であるウエハの領域内の複数の計測位置より面位置を測定する。面位置を検出する際の前記複数の計測位置のセンサ出力波形及び高さ測定値のどちらかに基づきウエハの異常を検出する検出手段と、異常検出時にその異常検出位置の近辺の高さ測定値から該異常検出位置の真の高さの推定値を算出する手段とを有する。

請求項（抜粋）：

パターン構造を有する領域が形成された物体の領域内の複数の計測位置より面位置を測定する面位置検出装置において、面位置を検出する際の前記複数の計測位置のセンサ出力波形及び高さ測定値のどちらかに基づき前記物体の異常を検出する検出手段と、異常検出時にその異常検出位置の近辺の高さ測定値から該異常検出位置における真の高さの推定値を算出する手段とを有することを特徴とする面位置検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

G01B 11/00 A ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 526 B ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (23件)：

2F065AA06 ,  2F065CC19 ,  2F065FF44 ,  2F065GG07 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065LL59 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ42 ,  5F046BA05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DD03 ,  5F046DD06