特許
J-GLOBAL ID：200903019641419778
パターン投影用原版
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-014089
公開番号（公開出願番号）：特開平10-207045
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】所望のパターンを試料に投影するための原版であって、ゴミが付着しにくい原版を提供する。【解決手段】投影すべき所望のパターンの貫通孔が形成された基板1の、表面および貫通孔の側面に酸化物膜3を形成する。そして、一端にフッ化炭素基を有し、他端に水酸基と化学反応する官能基を有する有機分子4を基板1表面全体に供給することにより、分子4の官能基と酸化物膜3の水酸基とを化学反応させ、基板1の酸化物膜3上に有機分子の皮膜6を形成する。この方法では、基板1の表面および貫通孔の側面に一様にフッ化炭素の単分子膜を形成できる。フッ化炭素単分子膜は、ゴミに対する吸着力が小さいため、汚染されにくい原版が得られる。
請求項（抜粋）：
投影すべき所望のパターンの貫通孔が形成された基板と、前記基板の表面および前記貫通孔の側面を覆うように配置された酸化物膜と、前記酸化物膜の全面を覆う皮膜とを有し、前記皮膜は、前記酸化物膜と化学的に結合し、かつ、膜表面部にのみフッ化炭素を有することを特徴とするパターン投影用原版。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/16 B
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 541 R
