光走査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-085006
公開番号（公開出願番号）：特開平11-264952
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】被走査面上で印字条件に適応したスポット形状を形成し、また同一の光偏向器を用いてもスポット形状を変化させることができる光走査装置を得ること。【解決手段】光源手段1aから射出された光束を第1の光学系1bにより主走査断面内において略平行光束にして光偏向器3に導光し、該光偏向器で反射偏向された光束を第2の光学系4により被走査面5上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査装置において、該第1の光学系によって形成される光束の光束幅は主走査断面内において、該光偏向器の偏向面の幅より広くなるように形成され、該光偏向器の偏向面の反射率は該偏向面内で不均一となるように設定されていること。

請求項（抜粋）：

光源手段から射出された光束を第1の光学系により主走査断面内において略平行光束にして光偏向器に導光し、該光偏向器で反射偏向された光束を第2の光学系により被走査面上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査装置において、該第1の光学系によって形成される光束の光束幅は主走査断面内において、該光偏向器の偏向面の幅より広くなるように形成され、該光偏向器の偏向面の反射率は該偏向面内で不均一となるように設定されていることを特徴とする光走査装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 102 , B41J 2/44 , H04N 1/113

FI (3件)：

G02B 26/10 102 , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 A

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