特許
J-GLOBAL ID：200903019653618474
水素ガス生成システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-318727
公開番号（公開出願番号）：特開2002-128502
出願日： 2000年10月19日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：
【要約】【課題】 ケミカルハイドライドと呼ばれる金属水素化物を用いて要求量に応じた水素ガスを安定的に生成する。【解決手段】 加水分解して水素を生成する金属水素化物と、水とを混合した流体でタンクに貯蔵する。この際、金属水素化物の反応率にpH依存性があることを利用し、反応速度が極めて低くなる強アルカリ状態で貯蔵する。流体状の原料を水素要求量に応じて反応器に供給する。原料と別に水を供給し、反応器のpHを十分な反応速度が得られる値に低下させる。流体により原料の定量供給が容易になるとともに、pH制御により、水素生成量を柔軟に制御することが可能となる。
請求項（抜粋）：
水素ガス生成システムであって、金属水素化物を加水分解または熱分解して水素を生成させる反応部と、該反応部に担持または充填された触媒と、前記金属水素化物、および前記分解反応に供される水または熱、の少なくとも一方の量を、水素ガスの要求量に応じて制御する制御部とを備える水素ガス生成システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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