特許

J-GLOBAL ID：200903019668449784

光学素子及びその製造方法

発明者： 那須 昌吾 ,  辻 弘恭 ,  深澤 利雄 ,  能智 紀台
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岡本 宜喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-237021
公開番号（公開出願番号）：特開平11-086322
出願日： 1997年09月02日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 透過率、反射率、P-S位相差等の光学特性を、光の入射角度依存性の少ないものにすること。【解決手段】 断面が略平行四辺形である硝材の一方の斜面上にSi の高屈折率膜Si1-a-Xa (Xは酸素、窒素、炭素の内少なくとも一種からなり、組成が0.05≦a≦0.35である膜)と、誘電体膜とを交互に積層した多層膜からなる偏光ビームスプリット膜を形成する。また、硝材の他方の斜面に、Si の高屈折率膜Si1-b-Xb (Xは酸素、窒素、炭素の内少なくとも一種からなり、組成が0.05≦b≦0.35である膜)と、低屈折率の誘電体膜とを交互に積層した反射膜を形成する。こうすると光磁気記録媒体からの反射光が拡散していても、P偏光とS偏光の位相差が変化せず、読み出し信号のSN比が高くなる。

請求項（抜粋）：

基板面に前記基板より高屈折率の高屈折率膜と誘電体膜とを交互に積層した偏光ビームスプリット膜を有する光学素子であって、前記高屈折率膜は、Xを酸素O、窒素N、炭素Cの内少なくとも1つの物質とするとき、前記Xの珪素Siに対する組成aが0.05≦a≦0.35の物質Si1-a-Xa で成膜されることを特徴とする光学素子。

IPC (2件)：

G11B 7/135 ,  G11B 11/10 551

FI (2件)：

G11B 7/135 A ,  G11B 11/10 551 E