特許
J-GLOBAL ID：200903019676509125
金属材料の研磨用組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-273001
公開番号（公開出願番号）：特開平5-112775
出願日： 1991年10月22日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【構成】水とアルミナ研磨材からなる金属材料の研磨用組成物に於いて、該組成物中にフッ素系界面活性剤とアミノ酸を含有させたことを特徴とする金属材料の研磨用組成物。【効果】磁気ディスク基板材料、半導体基板材料等の金属材料の研磨用組成物として従来の研磨用組成物と同等以上の研磨特性を有し、且つ面粗度が小さく、ピット、ノジュール等の表面欠陥がない優れた研磨を可能とし、加えて装置腐食、手荒れ、排水処理等の問題をも解消した。
請求項（抜粋）：
水とアルミナ研磨材からなる金属材料の研磨用組成物に於いて、該組成物中にフッ素系界面活性剤とアミノ酸を含有させたことを特徴とする金属材料の研磨用組成物。
IPC (2件)：
前のページに戻る
