特許
J-GLOBAL ID：200903019689690082

基板処理方法および基板処理装置

発明者：
宮 勝彦

宮 勝彦 について

, 
泉 昭

泉 昭 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 梁瀬 右司 ,  振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-091700
公開番号（公開出願番号）：特開2005-045206
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】 ノズルから基板にリンス液を供給してリンス処理を実行する基板処理装置および方法において、リンス液中の溶存酸素による基板への酸化膜の発生を抑制する。【解決手段】 純水に窒素を溶解させてなる窒素豊富なリンス液をリンス処理直前に生成する。これによって、リンス液の溶存酸素濃度は低下する。また、ノズルから吐出後におけるリンス液中の溶存酸素濃度の上昇速度が低く抑えられる。したがって、リンス液がノズル6,25から基板Wに向けて吐出されてから基板Wより除去されるまでの期間(例えば30秒程度)に、リンス液の溶存酸素濃度が急速に上昇することはなく、リンス液中の溶存酸素による基板への酸化膜の発生を抑制することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に処理液を供給して所定の湿式処理を施す湿式処理工程と、 純水に窒素を添加してリンス液を生成するリンス液生成工程と、 前記湿式処理工程後に前記リンス液をノズルから前記基板に供給することで前記基板に対して前記リンス液によるリンス処理を施すリンス工程と を備えたことを特徴とする基板処理方法。
IPC (2件)：
H01L21/304 ,  G11B7/26
FI (5件)：
H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648J ,  H01L21/304 648K ,  G11B7/26 521
Fターム (3件)：
5D121AA02 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板表面の洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-336307   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (4件)
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