特許
J-GLOBAL ID：200903019690189320
連続真空蒸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
堀田 実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-021561
公開番号（公開出願番号）：特開平6-235061
出願日： 1993年02月10日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】【目的】 合金蒸着領域のいずれの位置においても合金の蒸着速度比率が一定であり、厚さ方向にも均一の合金皮膜を走行基板上に得ることができ、ルツボからの高さに影響されることなく、均一の合金皮膜を走行基板上に得ることができる連続真空蒸着装置を提供する。【構成】 真空中で複数のルツボ6a、6bから異なる複数の蒸着材料A、Bを蒸発又は昇華させて連続的に供給される走行基板9の表面に合金膜を形成させる連続真空蒸着装置において、複数の蒸発材料を収納した複数のルツボが、走行基板の走行方向と交差する方向にほぼ同一線上に、混在するように配置されている。
請求項（抜粋）：
真空中で複数のルツボから異なる複数の蒸着材料を蒸発又は昇華させ、連続的に供給される走行基板の表面に合金膜を形成させる連続真空蒸着装置において、複数の蒸着材料を収納した前記複数のルツボは、走行基板の走行方向と交差する方向にほぼ同一線上に、混在するように配置される、ことを特徴とする連続真空蒸着装置。
IPC (2件)：
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