テレフタル酸および/またはテレフタル酸ジメチルの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山崎行造 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-562337
公開番号（公開出願番号）：特表2002-521467
出願日： 1999年07月20日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：

【要約】テレフタル酸および/またはテレフタル酸ジメチルを製造するための方法であって、トルエン不均化条件下において、トルエン含有反応流れを第一の触媒と接触させることを含み、無視できる量のオルト-キシレンとともにパラーキシレンンを製造する。第一の触媒は、少なくとも50分のオルト-キシレン拡散速度を有する結晶性分子ふるいを含む。第一の触媒は、ケイ素化合物または炭素化合物とともに、選択化により修飾される。パラ-キシレンの精製の必要性なしに、中間体生成物流れを、テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルへ酸化される。

請求項（抜粋）：

テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルを製造する方法であって、 (a) トルエン不均化条件下で、トルエンを含む反応流れを第一の触媒と接触させ、ここにおいて第一の触媒は、50分を超えるオルト-キシレン拡散時間を有する結晶性分子ふるいを含み、前記第一の接触は、パラ-キシレン生成物を生じ、そして、 (b) (a)の生成物を、第二の触媒と、酸化条件下で接触させ、テレフタル酸および/またはテレフタル酸ジメチルを生成する、ことを含む、方法。

IPC (6件)：

C07C 51/265 , B01J 29/80 , C07C 63/26 , C07C 67/39 , C07C 69/82 , C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 51/265 , B01J 29/80 Z , C07C 63/26 D , C07C 67/39 , C07C 69/82 A , C07B 61/00 300

Fターム (31件)：

4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA02 , 4G069BA07 , 4G069CB02 , 4G069CB42 , 4G069CB62 , 4G069DA06 , 4G069FB13 , 4G069FB29 , 4G069FB65 , 4G069ZA11B , 4G069ZF00 , 4H006AA02 , 4H006AC29 , 4H006AC46 , 4H006AC48 , 4H006BA71 , 4H006BA85 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BC14 , 4H006BC18 , 4H006BD70 , 4H006BE20 , 4H006BE30 , 4H006BJ50 , 4H006BS30 , 4H006KA06 , 4H039CA11 , 4H039CJ30

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