特許

J-GLOBAL ID：200903019705412020

基板処理装置及び処理液切替方法

発明者： 吉田 武司 ,  谷口 英行 ,  井上 一樹 ,  川上 重典
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-064972
公開番号（公開出願番号）：特開2004-267965
出願日： 2003年03月11日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】処理液変更に伴う時間的及び資源的ロスを抑制することができる基板処理装置及び処理液切替方法を提供する。【解決手段】この基板処理装置では、ノズル59と、処理液A,Bを供給するための処理液ライン81,83及び純水ライン85との間に切替弁部71を介装している。切替弁部71の開閉弁75,77,79を開閉することにより、ノズル59と処理液ライン81,83及び純水ライン85との間の管路の連通状態を個別に開閉することができる。このため、各処理液ライン81,83における切替弁部71の開閉弁75,77よりも一次側の部分においては処理液A,Bの混合を防止しつつ、使用する処理液A,Bの切替え、及び、処理液切替に伴う開閉弁75,77から二次側の管路における純水洗浄及び次回使用予定の処理液A,Bによるパージ処理を行うことができる。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

チャンバ内にて基板に処理を行う基板処理装置であって、 互いに異なる種類の処理液を供給する複数の処理液ラインと、 洗浄液を供給する洗浄液ラインと、 供給される液体を吐出するノズル手段と、 前記ノズル手段と、前記複数の処理液ライン及び前記洗浄液ラインとの間に介装され、前記ノズル手段と、前記各処理液ライン及び前記洗浄液ラインとの間の管路を個別に開閉する切替弁手段と、 を備える基板処理装置。

IPC (4件)：

B08B3/02 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/304

FI (5件)：

B08B3/02 B ,  B08B3/02 Z ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/304 648K

Fターム (14件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JC19 ,  3B201AA01 ,  3B201AB33 ,  3B201BB02 ,  3B201BB42 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CD22 ,  3B201CD43

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-292853   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置及び基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-238048   出願人：東京エレクトロン株式会社