特許
J-GLOBAL ID：200903019711446344
プラズマ発生方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-072669
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045096
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 高真空の下で高密度で均一性に優れ、これにより微細加工性が向上すると共にデバイスへの損傷の少ないプラズマ発生装置を提供する。【構成】 ドライエッチング装置等のプラズマ発生装置P1におけるプラズマ発生室を介して互いに対向する試料台及び対向電極(図示は省略している)には第1の周波数の高周波電力を印加する。前記プラズマ発生室の側方に位置する3つの電極4、5、6に、3相マグネトロンM1で発振した位相がおよそ120度づつ異なり前記第1の周波数と異なる第2の周波数の高周波交流電力を、端子a,b,cを介して印加して、プラズマ発生室内の電子にリサージュ運動をさせる。
請求項（抜粋）：
真空室内のプラズマ発生部の側方に複数の電極を配置し、高周波交流電力源から周波数が同じで位相が異なる高周波電力を前記複数の電極のそれぞれに供給して前記プラズマ発生部内の電子にリサージュ図形を描くような運動をさせることにより、前記プラズマ発生部に高密度で均一なプラズマを発生させることを特徴とするプラズマ発生方法。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23C 14/34
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/302
