特許

J-GLOBAL ID：200903019712046900

カラーフィルタとカラーフィルタの製造方法

発明者： 上島 邦敬 ,  澤崎 学
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-040199
公開番号（公開出願番号）：特開平7-248412
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】 カラーフィルタとカラーフィルタの製造方法、特にブラックマスクパターンの構成とその製造方法に関し、表示装置に使用したときのコントラストを改善する。【構成】 第1は、ブラックマスクパターンが、光吸収性を有するフォトレジスト層の上に遮光性金属層が積層されたものとする。第2は、光吸収性レジスト膜の成膜工程、該レジスト膜の露光工程、該レジスト膜の上に遮光性金属の成膜工程、該レジスト膜の露光または非露光部を除去し該金属膜をリフトオフさせる現像工程、透光性着色樹脂パターンを形成する工程を含む。第3は、フォトレジストパターンを透光性支持体の表面に形成する工程、その支持体の表面に遮光性金属の成膜工程、レジストパターンの溶去すると共にレジストパターンに被着した金属薄膜をリフトオフせしめる工程、透光性着色樹脂パターンを形成する工程を含む。

請求項（抜粋）：

透光性支持体(1) の表面に、ブラックマスクパターン(15)と透光性着色樹脂パターン(R,G,B) を形成したカラーフィルタにおいて、該ブラックマスクパターン(15)が、光吸収性を有するフォトレジスト層(12a)の上に遮光性金属層(14a) が積層されてなること、を特徴とするカラーフィルタ。

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/26 513