特許
J-GLOBAL ID：200903019715806370
フリーデル-クラフト-アルキル化反応生成物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-051835
公開番号（公開出願番号）：特開平9-241184
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月16日
要約：
【要約】【課題】 高活性な触媒を用いることによるフリーデル-クラフト-アルキル化反応生成物の効率的な製造方法を提供する。【解決手段】 一般式[I]で示される化合物の存在下、一般式[II]で示される化合物と一般式[III]で示される化合物とを反応させることによる一般式[IV]で示されるフリーデル-クラフト-アルキル化反応生成物の製造方法。【化1】【化2】【化3】【化4】【効果】 医薬品、農薬あるいは各種機能材料などの製造中間体として有用な化合物であるフリーデル-クラフト-アルキル化反応生成物を効率よく、かつ、高収率で製造することができる。
請求項（抜粋）：
一般式[I]【化1】[式中、Xは水素または-N(Tf1)Tf2〔Tf1は-SO2Rf1を表し、Tf2は-SO2Rf2(Rf1およびRf2はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、-OR5、-N(Tf3)R6または-N(Tf4)Tf5を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、-OR7、-N(Tf6)R8または-N(Tf7)Tf8〔Tf3は-SO2Rf3を表し、Tf4は-SO2Rf4を表し、Tf5は-SO2Rf5を表し、Tf6は-SO2Rf6を表し、Tf7は-SO2Rf7を表し、Tf8は-SO2Rf8(Rf3、Rf4、Rf5、Rf6、Rf7およびRf8はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。)を表し、R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、または、R5およびR7、R5およびR8、R6およびR7、あるいは、R6およびR8がいっしょになって2価の基を形成する。〕を表し、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を表し、mは0または1であり、pは0または1であり、m=1かつp=1の場合には、nは該当するMの原子価-2の整数を表し、m=1かつp=0の場合およびm=0かつp=1の場合には、nは該当するMの原子価-1の整数を表し、m=0かつp=0の場合には、nは該当するMの原子価の整数を表し、-N(Tf1)Tf2、-N(Tf3)R6、-N(Tf4)Tf5、-N(Tf6)R8または-N(Tf7)Tf8のうちの少なくとも1つを有する。]で示される化合物の存在下、一般式[II]【化2】[式中、R3は水素またはホルミル基を表す。]で示される化合物と一般式[III]【化3】[式中、R9、R10はそれぞれ独立に低級アルキル基またはトリアルキルシリルアルキル基を表す。]で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般式[IV]【化4】[式中、R4は低級アルキル基、低級アルケニル基または低級アルカジエニル基を表す。]で示されるフリーデル-クラフト-アルキル化反応生成物の製造方法。
IPC (6件)：
C07C 15/02
, B01J 31/02
, C07C 1/32
, C07C 2/66
, C07C 2/86
, C07C 15/44
C07C 15/02
, B01J 31/02 X
, C07C 1/32
, C07C 2/66
, C07C 2/86
, C07C 15/44
