特許

J-GLOBAL ID：200903019716271011

電気光学装置の製造方法

発明者： 大竹 俊裕
出願人/特許権者： 三洋エプソンイメージングデバイス株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-034168
公開番号（公開出願番号）：特開2006-220907
出願日： 2005年02月10日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】 所望の指向性で反射表示を実現できる電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】 透光性部材10A上に形成された遮光部及び透光部からなるマスクパターン11を有するマスク10を介して、電気光学装置用基板Dに露光光Lを照射することにより、マスクパターン11に対応する露光パターンを電気光学装置用基板Dに転写させて露光する電気光学装置の製造方法であって、マスク10は、透光性部材10Aのマスクパターン11が形成された面とは反対側の面に曲面C1,C2が設けられたレンズ部12を有してなり、当該レンズ部12を介してマスクパターン11に対応した露光パターンを電気光学装置用基板Dに転写して露光することを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

透光性部材上に形成された遮光部及び透光部からなるマスクパターンを有するマスクを 介して、電気光学装置用基板に露光光を照射することにより、前記マスクパターンに対応 する露光パターンを前記電気光学装置用基板に転写させて露光する電気光学装置の製造方 法であって、 前記マスクは、前記透光性部材の前記マスクパターンが形成された面とは反対側の面に 曲面が設けられたレンズ部を有してなり、当該レンズ部を介して前記マスクパターンに対 応した露光パターンを前記電気光学装置用基板に転写して露光することを特徴とする電気 光学装置の製造方法。

IPC (6件)：

G02F 1/136 ,  G02F 1/133 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 ,  G09F 9/00 ,  G09F 9/30

FI (6件)：

G02F1/1368 ,  G02F1/1335 520 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20 501 ,  G09F9/00 338 ,  G09F9/30 349D

Fターム (39件)：

2H091FA16Y ,  2H091FA26 ,  2H091FC02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091FC30 ,  2H091FD04 ,  2H091FD23 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16 ,  2H092GA13 ,  2H092HA05 ,  2H092JA25 ,  2H092MA14 ,  2H092MA16 ,  2H092MA17 ,  2H092MA35 ,  2H095BA12 ,  2H095BC24 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12 ,  5C094AA07 ,  5C094BA43 ,  5C094ED11 ,  5C094ED13 ,  5C094FA04 ,  5C094GB10 ,  5G435AA01 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435FF03 ,  5G435FF06 ,  5G435GG02 ,  5G435KK05 ,  5G435KK07 ,  5G435KK10 ,  5G435LL07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半透過・反射型電気光学装置、電子機器、および半透過・反射型電気光学装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-377304   出願人：セイコーエプソン株式会社
• レンズ素子の位置決め方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-026341   出願人：テオドールロバートホイットニー