特許

J-GLOBAL ID：200903019755062411

水循環式殺菌洗浄装置

発明者： 大場 貞夫 ,  岡島 清 ,  今井 恭二
出願人/特許権者： 株式会社エム・エー・シー・ジャパン ,  イー・アンド・エイチ・ジャパン株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-193160
公開番号（公開出願番号）：特開平8-057484
出願日： 1994年08月17日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】 使用者が、水の殺菌状態を判断でき、しかも手洗い殺菌効果の高く、効率良く陽極水(強酸性水)と陰極水(強アルカリ水)とを生成することができるい水循環式殺菌洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 蛇口8から陽極水とともに吐出されるガスが大気中に拡散されないようにしたガス拡散防止部10を有する水循環式殺菌洗浄装置。

請求項（抜粋）：

水槽(4) と、この水槽内の電解質が添加された原水を電解して陽極水と陰極水とを生成する電解槽(5) と、この電解槽で生成された陰極水を取出し前記水槽内に戻す陰極水管路(6) と、前記電解槽で生成された陽極水を取出し手洗いシンク(2) まで導く陽極水管路(7) と、この陽極水管路に連通された蛇口(8) から手洗いシンクに放水された陽極水を前記水槽内に戻す陽極水戻し管路(9) と、前記水槽内の原水を前記電解槽に導き循環させるポンプ(P) とを有する水循環式殺菌洗浄装置であって、前記蛇口から陽極水とともに吐出されるガスが大気中に放出されないようにしたガス拡散防止部(10)を有する水循環式殺菌洗浄装置。

IPC (7件)：

C02F 1/46 ,  A61L 2/18 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76