特許

J-GLOBAL ID：200903019758958220

レジスト処理装置

発明者： 千場 教雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-243492
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092719
出願日： 1996年09月13日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】本発明は、処理液の脱気処理において真空系に混入した処理液を効率良く除去して、良好に処理液の脱気処理を行うことができるレジスト処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】被処理体にレジスト処理を施す装置であって、処理液を収容する処理液収容部材と、前記処理液を前記被処理体上に供給する処理液供給手段と、前記処理液収容部材と前記処理液供給手段との間の処理液供給経路に設けられ、前記処理液に脱気処理を施す脱気手段とを具備し、前記脱気手段は、前記処理液に脱気処理を施す際に漏洩した処理液を収容するトラップタンクを含むことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

被処理体にレジスト処理を施す装置であって、処理液を収容する処理液収容部材と、前記処理液を前記被処理体上に供給する処理液供給手段と、前記処理液収容部材と前記処理液供給手段との間の処理液供給経路に設けられ、前記処理液に脱気処理を施す脱気手段とを具備し、前記脱気手段は、前記処理液に脱気処理を施す際に漏洩した処理液を収容するトラップタンクを含むことを特徴とするレジスト処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/38 501

FI (4件)：

H01L 21/30 563 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-197434
  
• 処理液塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-009080   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 液体供給ノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-009078   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平2-158122