特許
J-GLOBAL ID：200903019765591439
実装済プリント基板の検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-180838
公開番号（公開出願番号）：特開平5-026637
出願日： 1991年07月22日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】【目的】 実装済プリント基板上を微小ビーム光により走査し、その反射光を複数の方向から検出して実装状態を検査する装置に関する。光電変換素子の受光面積を拡大することなく、また三角測量の走査位置による特性変化を起こすことなく、高速,高精度かつ広範囲に部品の実装状態を検査する。【構成】 光源1より照射した微小ビーム光をポリゴンミラー4及び投影レンズ6により、実装済プリント基板7上を略垂直に走査する。反射光路補正光学系8,9,10,11は基板7からの拡散する反射光を受光しその光路を補正する。補正は、微小ビーム光の走査位置の変化に関わらず、一定の角度の反射光を受光し、かつその反射光を測定対象物の前記ビーム照射軸に対して垂直な面からの高さに応じた光電変換素子18,19,20,21の位置に導くようにする。
請求項（抜粋）：
検査すべき実装済プリント基板上を照射する微小ビーム光を発生する光源と、前記微小ビーム光によって実装済プリント基板上を走査するために前記微小ビーム光を偏向する偏向手段と、前記偏向手段により偏向された前記微小ビーム光を前記実装済プリント基板に対して略垂直に照射するレンズ系と、前記実装済プリント基板上の微小ビーム光照射位置から拡散する反射光を互いに異なる方向から受光し、電気的出力に変換する複数の第一の光電変換手段と、前記実装済プリント基板と前記第一の光電変換手段との間において、前記第一の光電変換手段のそれぞれに対応して配置され、前記プリント基板上の走査位置の変化に関わらず、常に前記反射光を第一の光電変換手段に導く複数の反射光の光路を補正する光学系と、前記実装済プリント基板上の前記微小ビーム光照射位置からの反射光のうち、前記微小ビーム光の照射光軸に沿った反射光を受光して電気的出力に変換する第二の光電変換手段と、を有することを特徴とする実装済プリント基板の検査装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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