特許
J-GLOBAL ID：200903019784347948
プラズマ溶射法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-032082
公開番号（公開出願番号）：特開平10-226869
出願日： 1997年02月17日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 厚膜化が容易なプラズマ溶射法により、気孔率が低く、著しく緻密なコーティング皮膜を形成する。【解決手段】 減圧チャンバ2内で、軸方向粉末送給式プラズマ溶射ガン6に粒径10μm以下の原料粉末を供給してプラズマ溶射することにより、部材の表面に皮膜を形成する。【効果】 微粉の原料粉末を軸方向粉末送給式プラズマ溶射ガンに供給して減圧条件下でプラズマ溶射することにより、ほぼ完全に溶解した原料粉末を高速でワークに衝突させることが可能となり、気孔率1%以下の緻密な皮膜を密着性良く形成することができる。
請求項（抜粋）：
減圧チャンバ内で、軸方向粉末送給式プラズマ溶射ガンを用い、該溶射ガンに粒径10μm以下の原料粉末を供給してプラズマ溶射することにより、部材の表面に皮膜を形成することを特徴とするプラズマ溶射法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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