特許

J-GLOBAL ID：200903019791416874

フォトマスク、拡散反射板及びその製造方法

発明者： 佐藤 行一 ,  藤井 幸男
出願人/特許権者： 新エスティーアイ テクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-151015
公開番号（公開出願番号）：特開2003-345029
出願日： 2002年05月24日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 良好な光散乱性を有する光拡散反射板を製造することができるフォトマスク及び拡散反射板及びその製造方法を提供する。【解決手段】 フォトマスクの光透過部T1はリング状であるので、リング状の光透過部の重心位置は遮光部S1となる。この遮光部S1の直下にあるフォトレジストには本来露光光が照射されないと思われるが、実際にはリング状の光透過部からの回折光が当該領域にも照射され、結果的には遮光部直下のフォトレジストも若干ながら露光される。光透過部T1の下のフォトレジストRSでは、相対的に低い潜像濃度分布を中心として周囲に相対的に高い潜像濃度分布が形成される。現像及び熱処理をフォトレジストに施すと、比較的緩やかな傾斜角を有する凹凸面がフォトレジストの表面に形成され、この上に形成される反射膜での反射光は高散乱強度を有しつつ、好適な指向性を有することとなる。

請求項（抜粋）：

500mm以上の対角寸法を有するフォトマスクにおいて、所定領域内に形成された複数の光透過部を有し、それぞれの前記光透過部はリング状であることを特徴とするフォトマスク。

IPC (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 5/02 ,  G02B 5/08 ,  G02F 1/1335 520

FI (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 5/02 C ,  G02B 5/08 A ,  G02B 5/08 C ,  G02F 1/1335 520

Fターム (22件)：

2H042BA04 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA11 ,  2H042DB00 ,  2H042DC02 ,  2H042DC08 ,  2H042DD10 ,  2H042DE00 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA16Y ,  2H091FA31Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FB08 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091LA16 ,  2H097GA45 ,  2H097JA02