特許

J-GLOBAL ID：200903019796941195

多孔性チタノシリケート及びその製造方法

発明者： 小菅 勝典 ,  プヤン ソビンドロ シン
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  小菅 勝典
代理人 (1件)： 工業技術院資源環境技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-158073
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330111
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：

【要約】【課題】 高活性な酸化触媒能を有する多孔性チタノシリケート及びその製造方法と、その中間体となる均質透明ゲルを提供する。【解決手段】 シリカ骨格中のSiの3〜25モル%をTiで同形置換した構造を有する多孔性チタノシリケート。前記多孔性チタノシリケートを製造する方法において、Si-アルコキシドとTi-アルコキシドとをモル比1:0.02〜0.27で混合したアルコキシド混合物に、液状アルキルアミンと水との混合液を、アルコキシド1モル当り、水0.5〜1.5モルの割合で滴下混合し、得られた均質透明ゲルを熟成し、乾燥し、次いで焼成することを特徴とする前記方法。Si-アルコキシドとTi-アルコキシドとをモル比1:0.02〜0.27で混合したアルコキシド混合物に、液状アルキルアミンと水との混合液を、アルコキシド1モル当り、水0.5〜1.5モルの割合で滴下混合することにより得られる均質透明ゲル。

請求項（抜粋）：

シリカ骨格中のSiの3〜25モル%をTiで同形置換した構造を有する多孔性チタノシリケート。