特許
J-GLOBAL ID:200903019819136104

合成ガスの製造用触媒及び合成ガスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-001895
公開番号(公開出願番号):特開平10-194703
出願日: 1997年01月09日
公開日(公表日): 1998年07月28日
要約:
【要約】【課題】 二酸化炭素を酸化剤とする低級炭化水素の酸化反応による合成ガスの製造用触媒において、炭素析出量の少ない触媒を提供するとともに、それを用いた合成ガスの製造方法を提供する。【解決手段】 低級飽和炭化水素と二酸化炭素との酸化反応による合成ガスの製造方法において、アルカリ土類金属とチタンとニッケルを含有し、アルカリ土類金属とチタンとの原子比が実質的に1/1であり、且つ該アルカリ土類金属とチタンはペロブスカイト構造を形成している複合金属酸化物からなる触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。アルカリ土類金属とチタンとニッケルを含有し、アルカリ土類金属とチタンとの原子比が実質的に1/1であり、且つ該アルカリ土類金属とチタンはペロブスカイト構造を形成している複合金属酸化物からなることを特徴とする低級飽和炭化水素の二酸化炭素を酸化剤として用いた酸化反応による合成ガス製造用触媒。
請求項(抜粋):
低級飽和炭化水素と二酸化炭素との酸化反応による合成ガスの製造方法において、アルカリ土類金属とチタンとニッケルを含有し、アルカリ土類金属とチタンとの原子比が実質的に1/1であり、且つ該アルカリ土類金属とチタンはペロブスカイト構造を形成している複合金属酸化物からなる触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。
IPC (2件):
C01B 3/40 ,  B01J 23/78
FI (2件):
C01B 3/40 ,  B01J 23/78 M

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