処理状況検知ウェハおよびデータ解析システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井ノ口壽
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-563004
公開番号（公開出願番号）：特表2005-516400
出願日： 2003年01月08日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：

ウェハ製造中における処理状況を測定するセンサをもつ基板を組み込んだ測定装置を提供する。基板はロボットヘッドにより処理室内に挿入でき、測定装置はリアルタイムに状況を伝送するか、もしくはその後の解析のために状況を保存することができる。装置の高感度電子部品を装置の精度、動作範囲、および信頼性を向上させるために、最も有害な処理状況から離すか、または隔離することができる。

請求項（抜粋）：

処理状況を検知および保存または伝送するためのシステムにおいて、表面部をもつ基板であって、前記基板の異なる領域における基板の処理状況を測定するためのセンサを備える基板と、センサの出力部に結合された信号取得回路構成を備える基板の表面に設けられた1つ以上の電子回路プラットフォームと、を備えるシステム。

IPC (1件)：

H01L21/02

FI (1件)：

H01L21/02 B

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第5,564,889号
米国特許第6,190,040号

審査官引用 (4件)

特許第6190040号
特許第6190040号
特許第6190040号

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