特許
J-GLOBAL ID：200903019855341962
ニッケルまたはニッケルアロイから構成されるフォイルのコーティング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三枝 英二 (外8名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-527681
公開番号（公開出願番号）：特表2002-500279
出願日： 1999年01月11日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：
【要約】本発明は、真空中でフォイルに金属化合物から構成される層をスパッタすることにより、ニッケル又はニッケルアロイから構成されるフォイルをコーティングする方法に関する。フォイルは、様々な時間、様々な速度で、プラズマイオンのエネルギーを用いて、10-3から10-2ミリバールの圧力でアルゴンプラズマ中で処理される。酸化クロムの層又は酸化クロムを含む層は、クロム又はクロム含有アロイから構成される少なくとも1つの標的を霧化する反応性マグネトロンによって、連続的にスパッタされる。上記の層は、10-3から10-2ミリバールの圧力下アルゴン-酸素混合物中で、少なくとも1つの霧化源を用いてスパッタされる。オペレーティングポイントは、与えられた境界中で一定に維持され、フォイルは、コーティングされている時は、熱バッファーを用いた限定された熱接触に結合されている。該フォイルは、与えられた第1及び第2オーダーの干渉がフォイルに達するまでコーティングされる。フォイルのプラズマ処理後、クロム又はクロム含有アロイから構成される層は、10-3から10-2ミリバールの圧力のアルゴン中でのマグネトロンの霧化によって、プラズマ処理されたフォイルにスパッタされる。
請求項（抜粋）：
電着により、フォイルの少なくとも片側の領域において、真空中でフォイルに金属化合物のフィルムをスパッタリングすることにより、調節可能な時間及びプラズマのイオンの調節可能な速度及びエネルギーとともに10-3から10-2mbarの圧力下アルゴンプラズマ中でフォイルを処理し、次に、10-3から10-2mbarの圧力下アルゴン-酸素混合物中で、少なくとも1つのスパッタリング源を使用して、クロム又はクロム含有アロイから作られた少なくとも1つの標的の反応性マグネトロンスパッタリングによる、酸化クロムフィルム又は酸化クロム含有フィルム上にスパッタリングし、オペレーティング・ポイントが明確な制限内に一定に維持され、コーティングの間、限定された熱的接触においてフォイルをヒートバッファーに接続し、第1又は第2オーダーの干渉を伴う予め決められた干渉色に達するまで、フォイルのコーティングを続けることによって、好ましく製造されるニッケルまたはニッケルアロイから構成されるフォイルをコーティングする方法;該方法において、フォイルのプラズマ処理の後、クロム又はクロムアロイのフィルムが、10-3から10-2mbarの圧力下アルゴン下でのマグネトロンスパッタリングによって、プラズマ処理したフォイルにスパッタされる。
IPC (4件)：
C23C 14/08
, B26B 21/60
, C23C 14/02
, C23C 14/34
C23C 14/08 J
, B26B 21/60
, C23C 14/02 Z
, C23C 14/34 U
