特許
J-GLOBAL ID：200903019855826621

基板処理装置及びその方法

発明者：
佐藤 紀勝

佐藤 紀勝 について

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木村 義雄

木村 義雄 について

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富田 浩

富田 浩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-238468
公開番号（公開出願番号）：特開2002-050668
出願日： 2000年08月07日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：
【要約】【課題】 検査部を処理ステーションに設けることにより、スループットの向上を図り、面倒な基板搬送を行わずに抜き取り検査を行うこと。【解決手段】 処理ステーションS2内に、受け渡しステージ5と検査装置40とウエハ載置部50と補助アームAとを備えた検査ユニット4を設け、主基板搬送手段MAにより受け渡しステージ5とウエハ載置部50にアクセスする。処理後の基板に対して抜き取り検査を行う場合に、検査用ウエハW1を受け渡しステージ5、補助アームAを介して検査装置40に搬送し、検査用ウエハW1が検査を行っている間に、検査の前工程から搬送されるウエハWに対してはウエハ載置部50に搬送する。検査が終了した検査用ウエハW1を次工程に搬送し、次いでウエハ載置部50のウエハWを次工程に搬送すると、カセットCに配列されている順序で検査部から次工程に搬送することができる。
請求項（抜粋）：
複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ-ションと、前記カセットステーションに隣接して設けられ、基板に対して処理液を塗布する基板処理部と、この基板処理部に対して前記基板カセットの配列の順序に従って基板の搬送を行うと共に、前記受け渡し手段との間で前記基板カセットの配列の順序に従って基板の受け渡しを行う主基板搬送手段と、を含む処理ステ-ションと、前記基板に対して前記基板処理部の処理状態を検査する検査部と、前記基板処理部にて処理され、前記検査部にて検査しようとする検査用基板を載置するための検査基板載置部と、前記基板処理部にて処理され、前記検査用基板よりも基板カセットに配列されている順序が後ろの基板を、前記配列の順序で載置するための基板載置部と、前記検査基板載置部と前記基板載置部に基板処理部にて処理された基板を搬送する基板搬送手段と、を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66
FI (7件)：
H01L 21/68 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 C ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 562
Fターム (38件)：
2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  4M106AA01 ,  4M106BA10 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB19 ,  4M106DH44 ,  4M106DH45 ,  4M106DJ03 ,  4M106DJ06 ,  4M106DJ20 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA03 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA33 ,  5F031PA02 ,  5F046AA28 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA21 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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