特許
J-GLOBAL ID：200903019864807796
電子線照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-219899
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052100
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 多数の顆粒状物の全体に満遍無く、しかも各顆粒状物のほぼ全表面に、低エネルギーの電子線を照射することができる電子線照射装置を提供する。【解決手段】 この電子線照射装置は、多数の顆粒状物2を薄幕状に落下させる顆粒状物供給装置30と、薄幕状に落下する顆粒状物2の左右両側に設けられていて、薄幕状に落下する顆粒状物2にその左右両側から200keV以下のエネルギーの電子線54をそれぞれ照射する2台の電子線加速器50とを備えている。更に、薄幕状に落下する顆粒状物2に沿う下降気流46を形成する下降気流形成装置40を備えている。各電子線加速器50は、複数列の照射窓52を有している。
請求項（抜粋）：
多数の顆粒状物を薄幕状に落下させる顆粒状物供給装置と、薄幕状に落下する顆粒状物の左右両側に設けられていて、薄幕状に落下する顆粒状物にその左右両側から200keV以下のエネルギーの電子線をそれぞれ照射する第1および第2の電子線加速器とを備えることを特徴とする電子線照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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