特許
J-GLOBAL ID：200903019870467158
配線用開口部及びその形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-212510
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055165
出願日： 1991年08月26日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】 コンタクトホール内に形成されるタングステンプラグの形状を良好にし、プラグの抵抗の上昇等を防止する。【構成】 層間絶縁膜11に形成するコンタクトホールの縦断面の形状を非対称に形成し、後工程でブランケットWCVDにて形成されるタングステン膜15のシームを斜めに形成することにより、エッチバックによるシームの拡大を防止する。これにより、タングステンプラグにボイドが発生するのを防止することが可能となる。
請求項（抜粋）：
ブランケットCVD及びそれに続くエッチバックによって導電体の埋め込みが行なわれる配線用開口部において、縦断面の形状を非対称に形成したことを特徴とする配線用開口部。
IPC (4件)：
H01L 21/28 301
, H01L 21/28
, H01L 21/306
, H01L 21/3205
