特許
J-GLOBAL ID：200903019874521955

金属表面処理剤、金属材料の表面処理方法及び表面処理金属材料

発明者：
迫 良輔

迫 良輔 について

, 
上野 圭一

上野 圭一 について

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本田 匠

本田 匠 について


出願人/特許権者：
日本パーカライジング株式会社

日本パーカライジング株式会社 について


代理人 (1件)： 坂口 昇造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-371035
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181860
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：
【要約】【課題】 金属材料に優れた耐食性、耐アルカリ性及び耐指紋性を付与するために用いる、クロムを含有しない金属表面処理剤等の提供。【解決手段】 下記式の樹脂化合物、バナジウム化合物、及びZr、Ti、Mo、W、Mn及びCeから選ばれる金属の化合物を含有する金属表面処理剤:【化1】[式中、R1は-CH2-、-CH2-NH-CH2-または-CH=N-CH2-を表し、 YはH又は式(II)【化2】を表し、 Zは芳香族化合物残基等を表し、 WはH又は基Pであって、該Pは-CH2X、-CH2NHCH2X又は-CH=NCH2X(式中、XはOH、OR4、ハロゲン、-N(R5)(R6)又は-N+(R7)(R8)(R9)A-を表す)を表し、 基Pの置換割合は基Pの数/(ベンゼン環の数及び基Zの数の合計)=0.2〜4.0であり、 n=0〜29、m=0〜10]
請求項（抜粋）：
一般式(I)で表される樹脂化合物(a)と、少なくとも1種のバナジウム化合物(b)と、ジルコニウム、チタニウム、モリブデン、タングステン、マンガン及びセリウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含む金属化合物(c)とを含有することを特徴とする金属表面処理剤:【化1】{式中、各R1は互いに独立に-CH2-、-CH2-NH-CH2-または-CH=N-CH2-を表し、Yは水素原子又は一般式(II)【化2】(式中、R2、R3は互いに独立に水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す)を表し、Zはホルムアルデヒドと付加縮合し得る芳香族化合物からその芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子が失われてできた、1〜4個の基-CH2X(式中Xは後述のWの定義中のXと同義である)を有していてもよい、nで括られた構造中の芳香環基とは異なる2価の基であるか、又はメラミン、グアナミンもしくは尿素の2つのアミノ基から水素原子が1つずつ失われてできた2価の基であり、各Wは互いに独立に水素原子又は基Pであって、該Pは-CH2X、-CH2NHCH2X又は-CH=NCH2X[式中、XはOH、OR4(R4は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基を表す)、ハロゲン原子、又は一般式(III)もしくは(IV)【化3】(式中、R5、R6、R7、R8及びR9は互いに独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基を表し、A-は水酸イオン又は酸イオンを表す)で表される基を表す]を表し、基Pの置換割合は基Pの数/(ベンゼン環の数及び基Zの数の合計)=0.2〜4.0であり、nは0もしくは1〜29の整数を表し、mは0もしくは1〜10の整数を表す。}
Fターム (13件)：
4K044AA02 ,  4K044AB02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA11 ,  4K044BA12 ,  4K044BA17 ,  4K044BA21 ,  4K044BB02 ,  4K044BC02 ,  4K044CA11 ,  4K044CA16 ,  4K044CA18 ,  4K044CA62
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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