特許

J-GLOBAL ID：200903019878313273

透明導電膜の形成方法

発明者： 奥芝 浩之 ,  塚田 稔 ,  田尻 寛充
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-077236
公開番号（公開出願番号）：特開平5-282934
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】複数の透明導電膜の間で透光性や導電性のバラツキがなく、均一な特性が得られた。【構成】透明導電膜用の液状金属化合物を超音波振動が印加されたノズルを介して霧状にし、その霧状金属化合物を被着用基体の表面に吹き付けて金属化合物膜を形成し、その後、該金属化合物膜を空気中あるいは酸素を含む雰囲気中で200〜600°Cで加熱し酸化させることにより透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

透明導電膜用の液状金属化合物を圧縮ガスを用いて超音波振動が印加されたノズルより霧状に噴出させ、その霧状金属化合物を被着用基体の表面に吹き付けて金属化合物膜を形成し、その後、該金属化合物膜を空気中あるいは酸素を含む雰囲気中で200〜600°Cで加熱し酸化させることにより透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の形成方法。

IPC (4件)：

H01B 13/00 503 ,  C23C 18/12 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 31/04