特許

J-GLOBAL ID：200903019889223667

パルスCVI装置

発明者： 塩谷 善弘 ,  黒柳 聡浩
出願人/特許権者： 東海カーボン株式会社
代理人 (1件)： 高畑 正也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-238978
公開番号（公開出願番号）：特開平6-057433
出願日： 1992年08月13日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：

【要約】【目的】 各種の多孔質基材に同種または異種物質を効率よく充填・被覆することができる工業的なパルスCVI装置を提供する。【構成】 端部にガス導入部13を備え、内部に被処理基材をセットするための収納スペース14を形成した緻密質黒鉛製の反応チャンバー15と前記反応チャンバー15の周辺を加熱するための発熱手段16とからなる反応炉本体11を、金属製の密閉系容器12に収納設置して反応炉を構成する。この反応炉を原料ガス導入系列および排気ガス系列に接続してパルスCVI装置とする。

請求項（抜粋）：

端部にガス導入部を備え、内部に被処理基材をセットするための収容スペースを形成した緻密質黒鉛製の反応チャンバーと前記反応チャンバーの周辺を加熱するための発熱手段とからなる反応炉本体を、金属製の密閉系容器に収納設置して反応炉を構成し、該反応炉を原料ガス導入系列と排気ガス系列に接続してなることを特徴とするパルスCVI装置。