特許

J-GLOBAL ID：200903019892840081

走査光学系と画像形成装置

発明者： 木村 一己
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-305842
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125024
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】 オーバーフィールド走査光学系(OFS)で、OFSの構造そのものを小型化でき、OFSのスポット性能を向上でき、OFSの走査線曲りを低減することを課題とする。【解決手段】 少なくともレーザー光源と、レーザー光を集光する集光素子と、レーザー光を偏向する偏向器と、偏向されたレーザー光を被照射体上に結像する結像素子を有するオーバーフィールド走査光学系において、前記集光素子の副走査方向の外形が主走査方向の外形より小さいことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくともレーザー光源と、前記レーザー光源からのレーザー光を集光する集光素子と、前記集光素子からのレーザー光を偏向する偏向器と、偏向されたレーザー光を被照射体上に結像する結像素子を有するオーバーフィールド走査光学系において、前記集光素子の副走査方向の外形が主走査方向の外形より小さいことを特徴とする走査光学系。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113

FI (3件)：

G02B 26/10 D ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (20件)：

2C362AA34 ,  2C362BA86 ,  2C362BB14 ,  2C362DA06 ,  2C362DA08 ,  2H045AA01 ,  2H045CA03 ,  2H045CA33 ,  2H045CA53 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072CA06 ,  5C072DA02 ,  5C072DA21 ,  5C072DA23 ,  5C072HA02 ,  5C072HA09 ,  5C072HA13 ,  5C072RA11 ,  5C072XA05