特許
J-GLOBAL ID：200903019903968697
マスクパターンの作成装置、高解像度マスクの作製装置及び作製方法、並びにレジストパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215349
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365783
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【課題】 高解像度マスクを形成する際、そのマスクパターンのパターン形状及びパターン密度が不均一なことに起因して、位相差にズレが生じたり、露光の際の焦点深度及び露光量の裕度が小さくなったりすることを防止し、パターン形状制御性や転写位置精度を向上することが可能なマスクパターンの作成装置、高解像度マスクの作製装置及び作製方法、並びにレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 所定のパターンデータに基づき当初マスクパターンを作成する第1のマスクパターン作成部21と、この当初マスクパターンについて、ローディング効果に関するデータに基づき、その微細パターンのパターン形状及びパターン密度を基準として複数種類のマスクパターンに分割するパターン分割部22と、これら複数種類のマスクパターン毎に、複数の最終マスクパターンを作成する第2のマスクパターン作成部24とが設けられている。
請求項（抜粋）：
微細パターンの微細線幅方向両側を透過する光の位相差による干渉効果を用いて解像力を向上させる高解像度マスクのマスクパターンの作成装置であって、所定のパターンデータを入力するパターンデータ入力部と、位相シフトマスクにおける透明基板の透過部をエッチングして掘り込みを形成する際のローディング効果に関するデータを入力するローディングデータ入力部と、前記パターンデータ入力部に入力した所定のパターンデータに基づき、当初マスクパターンを作成する第1のマスクパターン作成部と、前記第1のマスクパターン作成部において作成した前記当初マスクパターンについて、前記ローディングデータ入力部に入力したローディング効果に関するデータに基づき、パターン形状及びパターン密度を基準として複数種類のマスクパターンに分割するパターン分割部と、前記パターン分割部部において分割した前記複数種類のマスクパターン毎に、複数の最終マスクパターンを作成する第2のマスクパターン作成部と、を有することを特徴とするマスクパターンの作成装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 514 A
2H095BB01
, 2H095BB03
, 5F046AA13
, 5F046AA25
